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DIFFUSED 데이터시트, PDF

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제조업체부품명데이터시트상세설명
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Ledil, Inc. 		CP13665 Datasheet pdf image
2Mb/6P		 ~25째 diffused beam
CP13666 Datasheet pdf image
2Mb/5P		 ~25째 diffused beam.
FCP14966 Datasheet pdf image
6Mb/7P		 ~18째 diffused spot beam
FCP15345 Datasheet pdf image
6Mb/5P		 ~18째 diffused spot beam
FCA15450 Datasheet pdf image
7Mb/6P		 ~18째 diffused spot beam
C15013 Datasheet pdf image
6Mb/6P		 ~7째 diffused spot beam
CA13629 Datasheet pdf image
8Mb/10P		 ~13째 diffused spot beam.
CP17588 Datasheet pdf image
1Mb/4P		 ~14째 diffused spot beam
CA16707 Datasheet pdf image
1Mb/4P		 ~15째 diffused spot beam
CP17593 Datasheet pdf image
1Mb/4P		 ~16째 diffused spot beam
FA11205 Datasheet pdf image
2Mb/7P		 ~16째 diffused spot beam.
CA15519 Datasheet pdf image
5Mb/5P		 ~15째 diffused spot beam
C12491 Datasheet pdf image
2Mb/5P		 ~145째 wide diffused beam
CA13014 Datasheet pdf image
1Mb/6P		 ~145째 wide diffused beam
CA14308 Datasheet pdf image
3Mb/5P		 ~16째 diffused spot beam
CP14996 Datasheet pdf image
8Mb/8P		 ~18째 diffused spot beam
CN17274 Datasheet pdf image
5Mb/4P		 ~50째 diffused wide beam. 4X1 variant in glossy white with diffused lenses.
CP12818 Datasheet pdf image
2Mb/4P		 ~16째 diffused spot beam optimized
CP12671 Datasheet pdf image
2Mb/4P		 ~16째 diffused spot beam optimized
DAISY-MINI-WW-D Datasheet pdf image
333Kb/4P		 ~65째 wide beam. Variant with diffused lenses

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DIFFUSED 란

전자부품에서 DIFFUSED는 일반적으로 반도체 제조 과정에서 사용되는 용어입니다.

반도체 제조 과정에서, DIFFUSED는 일반적으로 불순물을 반도체 소재에 녹여서 산화 반응을 일으켜 원하는 반도체 소자를 만들어 내는 기술을 가리킵니다.

이러한 기술은 반도체 소자의 특성을 결정하는 중요한 과정 중 하나입니다.

예를 들어, 실리콘을 이용한 반도체 소자에서, 디퓨전(불순물을 녹여서 산화 반응을 일으키는 기술)은 일반적으로 소자 내부의 pn 접합(positive-negative junction)을 형성하는 데 사용됩니다.

이 pn 접합은 다양한 전자부품에서 사용되는 다이오드, 트랜지스터, 집적회로 등의 기본적인 구성 요소 중 하나이며, 반도체 소자의 전기적 특성을 결정하는 중요한 요소입니다.

*이 정보는 일반적인 정보 제공의 목적으로만 제공되며 위 정보로 인해 발생하는 손실이나 손해에 대해 책임을 지지 않습니다.


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